При испарительном PVD-процессе материал переводится в паровую фазу и переносится к подложке при пониженном давлении. Свойства покрытия зависят от материала, давления, геометрии, температуры подложки и подготовки поверхности.
Источники
При термическом испарении материал нагревается резистивным или иным предусмотренным источником. В электронно-лучевом испарителе нагрев локализуется электронным пучком. Конкретная совместимость материала с тиглем, источником и мощностью должна подтверждаться технологически.
Управляемые параметры
Нужно определить базовое давление, скорость осаждения, расстояние и углы между источником и подложкой, вращение оснастки, нагрев и измерение толщины. Для реактивной среды добавляются состав газа и контур регулирования.
Ограничения
Линейность переноса влияет на покрытие сложной геометрии. Разбрызгивание, загрязнение, тепловая нагрузка и изменение состава материала требуют проверки. Обещать однородность без геометрии загрузки и метода контроля некорректно.
Исходные данные направляйте на mail@rankuum.ru.