Вакуумное нанесение покрытий
Установка ионного распыления предназначена для формирования функциональных тонких плёнок, применяемых в оптике, фотонике, полупроводниковых и исследовательских технологиях.
Назначение и технологическая роль
Установка ионного распыления предназначена для формирования функциональных тонких плёнок, применяемых в оптике, фотонике, полупроводниковых и исследовательских технологиях.
Установка нанесения покрытий объединяет вакуумную камеру, откачку, источники материала, держатели подложек, газовую систему, питание и автоматизацию технологического цикла.
Конструкция и интеграция
Конфигурацию определяют материал и геометрия подложки, состав и функция покрытия, выбранный метод осаждения, загрузка, производительность, нагрев и способ контроля результата.
| Раздел | Вакуумное нанесение покрытий |
|---|---|
| Серия или модель | Установка ионного распыления |
| Тип оборудования | Установка ионного распыления |
Критерии подбора
| Параметр проекта | Что необходимо определить |
|---|---|
| Подложка | Материал, размеры, количество и допустимая тепловая нагрузка |
| Покрытие | Материал слоя, толщина, однородность и критерий приёмки |
| Процесс | Испарение, распыление, реактивная среда и подготовка поверхности |
| Загрузка | Камерная, рулонная или непрерывная схема транспортирования |
| Управление | Рецепты, регистрация параметров, блокировки и интеграция |